> 碳化硅 工艺
摘 要：
采用复合电镀技术在炭素结构钢板的表面上制备高硬度的 Ｎｉ－ ＳｉＣ 纳米复合镀层， 研究镍－ 碳化硅纳米复合电镀的工艺条件。
结果表明， 当阴极电流密度为 ２．５６ Ａ／ｄｍ２， 镀液中纳米碳化硅粉的质量浓度为 ２０ ｇ／Ｌ， 镀液的 ｐＨ 值为 ５．０， 温度为 ５０ ℃时， 镀层生长良好， 均匀细致平滑， 镀层的显微硬度可达到 ９５０ＨＶ０．２， 远高于普通纯镍镀层的硬度。
关键词：
纳米复合电镀； 镍－ 纳米碳化硅； 显微硬度
复合电镀技术是在电镀液中添加一种或数种不溶性的固体颗粒， 使其与金属离子共沉积而形成具有特殊功能镀层的电镀技术。
如添加颗粒为纳米级的颗粒，因纳米材料的独特结构而具有的小尺寸效应、量子尺寸
阐述了液相烧结SiC陶瓷喷雾造粒过程中的相关制备工艺,研究了浆料的特性、干燥温度、喷雾压力等因素对粉体性能的影响.并通过实验总结出一套合理的工艺参数,制备出球形实心颗粒粉料.粉料的松装密度0.88 g/cm3、休止角33.5°、平均粒径50μm,具有良好的流动性及快速填充性,可直接用于干压成型. 液相烧结碳化硅喷雾造粒工艺控制 [期刊论文] 化工新型材料 --2006, 34(8) 朱桂花
郑州泰达微粉干燥设备是我公司针对超细微粉系列物料所研制的专用设备，广泛适用于化工、医药、农药、食品、饲料、农副产品加工等行业的干燥作业。
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